?關于氬氣/氦氣純化的方法:
■第一種
直接脫氧法。就是使用活性金屬、催化(hua)(hua)(hua)劑與(yu)氬氣(qi)(qi)(qi)/氦(hai)氣(qi)(qi)(qi)中(zhong)的(de)(de)氧氣(qi)(qi)(qi)進行反應,消(xiao)化(hua)(hua)(hua)掉氬氣(qi)(qi)(qi)/氦(hai)氣(qi)(qi)(qi)中(zhong)的(de)(de)氧氣(qi)(qi)(qi),從而達到(dao)脫氧的(de)(de)目的(de)(de),經(jing)過分子篩吸(xi)收(shou)掉氬氣(qi)(qi)(qi)/氦(hai)氣(qi)(qi)(qi)中(zhong)的(de)(de)水(shui)份和二(er)氧化(hua)(hua)(hua)碳,使氬氣(qi)(qi)(qi)/氦(hai)氣(qi)(qi)(qi)的(de)(de)含水(shui)量小于1 ppm;
■第二種
是采用(yong)吸氣劑。在一定(ding)溫度下(xia),吸氣劑可(ke)吸收氮、氫、氧、一氧化碳(tan)、二氧化碳(tan)、甲(jia)烷等氣體經吸收處理后,凈化后純度可(ke)達(da)到6N\7N\8N\9N,這種工(gong)藝生(sheng)產出來的高純氣體適(shi)用(yong)于各類儀器儀表適(shi)用(yong)要求。
?技術參數:
■ 處理氣(qi)量(liang):5~2000Nm3/h(可根據用戶(hu)需要訂做(zuo)非標(biao)設備)
■ 原(yuan)料(liao)氣要求:液(ye)氬/液(ye)氦或者較(jiao)好(hao)的管(guan)道氬/氦均可使用
■ 工作壓力0.2-1.6MPa可調
介質 | 原料(liao)氣 | 純(chun)化后 | 純(chun)化(hua)后雜質 | 備注(zhu) |
Ar/He | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤1ppm;顆粒≤0.1μm | |
Ar/He | ≥99.999% | 7N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤100ppb;顆(ke)粒≤0.003μm | |
Ar/He | ≥99.9999% | 8N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2 ≤10ppb; 顆粒(li)≤0.003μm | |
Ar/He | ≥99.99% | 6N | O2、H2O、CO2 ≤1ppm; 顆(ke)粒≤0.1μm | 不除氮和甲烷 |
Ar/He | ≥99.999% | 7N | O2、H2O、CO2 ≤100ppb;顆粒≤0.003μm | 不除氮和甲烷 |
Ar/He | ≥99.9999% | 8N | O2、H2O、CO2 ≤10ppb; 顆(ke)粒≤0.003μm | 不除氮和甲烷 |
?用途:
用于高純氣體充裝站、焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣、填充氣體、真空檢漏、氣相色譜分析的載氣。
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