1.裝置(zhi)要(yao)求：

 工藝要求：

氦氣經(jing)氦氣(qi)凈化機(ji)（RZ-HEC-4D/6N型）后雜質含量應控制為：

純度：99.9999%

雜(za)質含量(liang)：O2≤0.2PPm，H2O≤0.2PPm(即露(lu)點≤－86℃)，CO+CO2≤0.1PPm，N2≤0.2PPm，S、P的氧化物≤0.1PPm。塵埃粒子(zi)數(shu)（≥0.3μm）3-5個／升。

處理氣量：4M3/h。工(gong)作壓力(li):0.1-0.9MPa

2.適用(yong)標(biao)準、規(gui)范、應用領域(yu)

GB/T4844.1~4844.3-1995《超純(chun)氦氣(qi)》

GB50058《爆炸和火(huo)災(zai)危(wei)險環境(jing)電力裝置(zhi)設計規范(fan)》

GB7251《低壓成套(tao)開關柜》

GB150《鋼制壓力容器(qi)》

GB151《鋼制(zhi)管殼式換熱(re)器》《鋼制(zhi)壓(ya)力容(rong)器安全(quan)技術監察規程》

   本裝置應用領(ling)域：

       主要(yao)用于電(dian)子、原子能、光譜分(fen)析(xi)等行(xing)業的生產(chan)和(he)科(ke)研工(gong)作(zuo)，尤其適合與氧氮分(fen)析(xi)儀配套使用。