吳經理 陳經理
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超(chao)純(chun)氫(qing)氣(qi)純(chun)化設(she)備、電(dian)解氫(qing)氣(qi)純(chun)化設(she)備、PEM電(dian)解氫(qing)氣(qi)純(chun)化設(she)備
?產品介紹:
■ QYC系列高(gao)(gao)純(chun)氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)純(chun)化(hua)設(she)備以(yi)水(shui)(shui)(shui)電解氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)為(wei)原料氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)進(jin)入純(chun)化(hua)是不是的氣(qi)(qi)(qi)水(shui)(shui)(shui)分(fen)(fen)離(li)(li)器(qi)(qi)(qi)，分(fen)(fen)離(li)(li)去游離(li)(li)子(zi)水(shui)(shui)(shui)后(hou)(hou)進(jin)入脫氧器(qi)(qi)(qi),在催化(hua)劑的作(zuo)用下，使(shi)原料氫(qing)(qing)(qing)(qing)中的雜質(zhi)(zhi)氧100%與氫(qing)(qing)(qing)(qing)反應生(sheng)成水(shui)(shui)(shui)汽。脫除雜質(zhi)(zhi)氧后(hou)(hou)，經氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)冷卻(que)器(qi)(qi)(qi)和氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)冷凝(ning)器(qi)(qi)(qi)（使(shi)用冷卻(que)水(shui)(shui)(shui)）及(ji)自動(dong)氣(qi)(qi)(qi)水(shui)(shui)(shui)分(fen)(fen)離(li)(li)器(qi)(qi)(qi)，分(fen)(fen)離(li)(li)去游離(li)(li)的凝(ning)水(shui)(shui)(shui)，然后(hou)(hou)進(jin)入分(fen)(fen)子(zi)篩吸附干燥(zao)器(qi)(qi)(qi)（I ）去濕，再通(tong)過(guo)壓(ya)力調(diao)節閥調(diao)定(ding)純(chun)化(hua)工作(zuo)壓(ya)力和通(tong)過(guo)高(gao)(gao)效過(guo)濾器(qi)(qi)(qi)除塵，獲(huo)得純(chun)氫(qing)(qing)(qing)(qing)產(chan)品。氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)純(chun)化(hua)設(she)備干燥(zao)部分(fen)(fen)分(fen)(fen)為(wei)兩塔(ta)和三塔(ta)流(liu)程；三塔(ta)流(liu)程再生(sheng)氫(qing)(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)(qi)零(ling)排(pai)放；
■QGC系列超純(chun)(chun)氫氣(qi)純(chun)(chun)化(hua)(hua)設備：是在QYC系列純(chun)(chun)化(hua)(hua)設備基礎上加貴金屬(shu)吸(xi)氣(qi)劑(ji)工藝。在一定(ding)溫(wen)度下(xia)，吸(xi)氣(qi)劑(ji)可(ke)深度吸(xi)收氫氣(qi)中的(de)氮、氧、一氧化(hua)(hua)碳、二氧化(hua)(hua)碳、甲(jia)烷等氣(qi)體(ti)雜質(zhi)，凈化(hua)(hua)后純(chun)(chun)度可(ke)達(da)到6N\7N\8N\9N；
?技術參數:
■ 處理氣量：1~2000Nm3/h(可根據(ju)用戶需要(yao)訂做非標設備)
■ 原料氣要求：水電解氫氣（如果是(shi)其(qi)他(ta)氫氣來源、訂購時需說明，工藝不(bu)一樣）
■ 工作壓(ya)力：0.2-6MPa （可根據用戶需要訂）
介質 | 原料氣 | 純化后 | 純化后(hou)雜質 | 備注 |
H2 | ≥99.8% | 5N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤2ppm; 顆粒≤0.1μm | |
H2 | ≥99.8% | 6N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ; ≤1000ppb;顆粒≤0.003μm | |
H2 | ≥99.99% | 7N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤100ppb; 顆粒≤0.003μm | |
H2 | ≥99.999% | 8N | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤10ppb; 顆(ke)粒≤0.003μm | |
H2 | ≥99.8% | 6~8N | O2、H2O、CO2 ≤10ppb;顆粒≤0.003μm | 不除氮和甲烷 |
H2 | ≥99.99% | 7~8N | O2、H2O、CO2 ; ≤10ppb; 顆粒≤0.003μm | 不除氮(dan)和甲烷(wan) |
?用途(tu): 廣泛應(ying)用于石(shi)油化(hua)工、電(dian)子工業、電(dian)子半(ban)導(dao)體(ti)(ti)、冶金(jin)工業、機(ji)械、食品加工、浮法(fa)玻璃、高純材料和(he)光(guang)電(dian)材料等(deng)產業部(bu)門和(he)科學(xue)研究中、生(sheng)產部(bu)門亦(yi)可作為熱處理保(bao)護氣體(ti)(ti)以及精(jing)細有機(ji)合(he)成、航空航天(tian)等(deng)方(fang)面有著廣泛的(de)(de)應(ying)用。例(li)如本機(ji)已在精(jing)密合(he)金(jin)熱處理、航天(tian)航空、半(ban)導(dao)體(ti)(ti)硅(gui)材料、硅(gui)外延(yan)、化(hua)合(he)物半(ban)導(dao)體(ti)(ti)等(deng)的(de)(de)生(sheng)產中的(de)(de)應(ying)用，效果(guo)都很好。
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