吳經理 15190055540陳經理15190055548
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吳經理 15190055540
?產品介紹:
RZ-YYC系列(lie)氧(yang)氣純化裝置采用特制催化劑，以工業氧(yang)氣為原料氣，通過(guo)催化氧(yang)化工序脫(tuo)除(chu)H2、CO和烴類；經冷卻(que)系統、氣水分離(li)器、吸附(fu)干(gan)燥脫(tuo)除(chu)H2O、CO2,兩塔(ta)交替工作(zuo)、再生(sheng)，對(dui)原料氣的連(lian)續純化。注(zhu)：本工藝不能脫(tuo)除(chu)氧(yang)氣中的氮(dan)、氮(dan)等惰性氣體(ti)雜質。
?產品參數:
■ 處理氣量(liang)：1~1500Nm3/h(可根據用(yong)戶需要(yao)訂做非標設備)
■ 原料氣(qi)要求：工業氧
■ 工作(zuo)壓力(li)0.2-0.8MPa可調
■ (氧氣(qi)純(chun)化裝(zhuang)置(zhi))凈化效(xiao)能：純(chun)化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求，注：本工藝不(bu)能脫除氧氣(qi)中的氮(dan)、氮(dan)等惰性氣(qi)體雜質。
介質 | 原料氣 | 純化后 | ; 純(chun)化后雜質 | 備注 |
氧(yang)氣 （空(kong)分(fen)液(ye)氧） | ≥99.5% | ≥99.999% | H2、CO2、CH4≤0.5ppm,H2o≤2ppm | 氬、氮不除 |
純氧 | ≥99.99% | ≥99.9996% | H2、CO2、CH4≤0.1ppm,H2o≤1ppm | 氬(ya)、氮不除 |
?用途:
該系列(lie)氧氣純(chun)化裝置適用于需要大量高純(chun)氧氣的半導體(ti)、光纖、晶體(ti)管(guan)，顯像管(guan)等(deng)主要生(sheng)產部門。
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